突破物理極限光刻機之戰(zhàn)

2023-05-08 12:12:57 編輯：農(nóng)士裕來源：

導讀半導體光刻機的重要性不言而喻，航空發(fā)動機一直被譽為人類頂尖工業(yè)皇冠上的明珠。近幾年的不斷突破物理極限的半導體光刻機的重要性慢慢會高

半導體光刻機的重要性不言而喻，航空發(fā)動機一直被譽為人類頂尖工業(yè)皇冠上的明珠。近幾年的不斷突破物理極限的半導體光刻機的重要性慢慢會高于航空發(fā)動機之上。光刻是指在比頭發(fā)絲還細千倍的地方挑戰(zhàn)激光波長和量子遂川的極限，有了光刻機之后，讓工廠能夠在每秒鐘刻出上千億個晶體管。

60年代以及70年代，光刻并不是高科技。直到60年代末，日本的尼康以及佳能開始進入該領(lǐng)域，70年代出光刻機技術(shù)集中在如何保證10個甚至更多個掩模板精準的客套在一起。從60年代開始發(fā)展至今，已經(jīng)走過50多年的時間。光刻機之戰(zhàn)從未停止過，在不久的未來通過人類的智慧，一定能夠突破光學光刻機的極限，光刻機在半導體制造業(yè)中占據(jù)著不可替代的地位。