濺射靶材（關(guān)于濺射靶材的簡介）

2022-07-31 13:30:58 編輯：池梅萍來源：

導讀大家好，濺射靶材，關(guān)于濺射靶材的簡介很多人還不知道，現(xiàn)在讓我們一起來看看吧！1、磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition

大家好，濺射靶材，關(guān)于濺射靶材的簡介很多人還不知道，現(xiàn)在讓我們一起來看看吧！

1、磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。

2、一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點。

3、上世紀 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。

4、因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。

5、磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

本文關(guān)于濺射靶材的簡介就講解完畢，希望對大家有所幫助。

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