國產(chǎn)光刻機(jī)工廠落地雄安中國電子工程設(shè)計(jì)院澄清

2023-09-19 17:28:15 編輯：郭程龍來源：

導(dǎo)讀近期，網(wǎng)上有關(guān)國產(chǎn)光刻機(jī)工廠落地雄安的消息在各大平臺上流傳，消息稱清華大學(xué)Euv項(xiàng)目把Asml的光刻機(jī)巨大化，并且該項(xiàng)目在雄安新區(qū)正式落...

近期，網(wǎng)上有關(guān)國產(chǎn)光刻機(jī)工廠落地雄安的消息在各大平臺上流傳，消息稱清華大學(xué)Euv項(xiàng)目把Asml的光刻機(jī)巨大化，并且該項(xiàng)目在雄安新區(qū)正式落地。針對這個(gè)消息，中國電子工程設(shè)計(jì)院有限公司在9月18日發(fā)布聲明稱，該項(xiàng)目并非是網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機(jī)工廠，而是北京高能同步輻射光源項(xiàng)目。這個(gè)項(xiàng)目是國家的十三五重大科技基礎(chǔ)設(shè)施，是當(dāng)今世界上亮度最高的第四代同步輻射光源項(xiàng)目之一。

根據(jù)相關(guān)資料顯示，HEPS主要是通過加速器將電子束加速到6GEV，然后利用接近光速的速度保持運(yùn)轉(zhuǎn)，電子束會在儲存環(huán)的不同位置通過彎轉(zhuǎn)磁鐵或者是一些插入件偏轉(zhuǎn)方向。從而釋放出高能量，高亮度和穩(wěn)定的光線，這種功能就是同步輻射光，可以把它看成一個(gè)超高速和超高精的巨型X光機(jī)器。

標(biāo)簽：國產(chǎn)光刻機(jī)，雄安，中國電子工程設(shè)計(jì)院

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